物镜系统是国产浸润式光刻机的难点。

好在李云海早就做了准备。

在ASML还没有发动研究的时候，李云海就已经与卡尔蔡司达成合作，而且是独家合作！

也就是说，卡尔蔡司只能和四海集团一起开发相关的物镜系统。

目前国际上最先进的物镜系统，只能达到90nm。

李云海的眼光放得更长远，他要求三江科研院，尽快取得更大的突破。

不过，目前来看，90nm已经够用很长一段时间了。

科技的发展，本就是挤牙膏一样，慢慢的成长，而不是一蹴而就。

工作台是浸润式光刻机中不太困难的部份。

原来的四海科研院，就已经研制出工作台，经过纪文姝团队的改良之后，现在已经实现了134nm的精度控制。

因此对于浸润式光刻机而言，工作台的问题基本解决了。

浸润式系统由控制软件、液态传感器和控制器等组成。

三江科研院，在浸液控制系统上取得了重大突破，为浸润式光刻机的实现奠定了基础。

国产浸润式光刻机的实现，我国就有能力制造更高级别的芯片！

包括以后的14nm和7nm芯片！

如此一来，我们可以大大减少对进口设备的依赖。

浸润式光刻机的突破为我国芯片制造业提供了很大的希望。

只要物镜系统能够实现突破，完全国产化的浸润式光刻机就可以实现，从而使以后7nm芯片的全国产化变得不那么困难。

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